Mask pattern interference in AlGaInAs selective area metal-organic vapor-phase epitaxy: Experimental and modeling analysis - Sorbonne Université Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2008
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01444571 , version 1 (24-01-2017)

Identifiants

Citer

N. Dupuis, J. Décobert, Pierre-Yves Lagrée, N. Lagay, F. Poingt, et al.. Mask pattern interference in AlGaInAs selective area metal-organic vapor-phase epitaxy: Experimental and modeling analysis. Journal of Applied Physics, 2008, 103 (11), ⟨10.1063/1.2937167⟩. ⟨hal-01444571⟩
105 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More